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金刚石基底镀钨膜工艺研究-需求公告

发布日期：2026-11-03

采购编号：

CG20261102007

报价截止日期：

2026-11-06 00:00

供应商资质要求：

1、测试内容：金刚石基底镀钨膜工艺研究，包括镀钨膜制备工艺开发，完成膜厚、形貌、物相、附着力、方阻、热稳定性等表征，形成工艺规范与报告，交付样品。2、所需设备：磁控溅射或离子束沉积系统、超声清洗机、台阶仪和粗糙度仪、尺寸精度计量器具等，均须在计量有效期内。3、技术指标：钨膜厚0.5-5μm，厚度偏差≤±5%，区内均匀性≤±5%，500°热循环不起皮开裂，甲方提供金刚石片，乙方至少交付样品5件，并提供完整镀钨膜工艺流程文件。4、完成时限：服务期限签订合同之日起到2027年3月

采购物品需求清单
序号	物品名称	品牌/生产商	指标需求	计量单位	采购数量	交货周期	交货地点	备注
1	金刚石基底镀钨膜工艺研究		甲方在合同期间内提供的金刚石基底样品及技术要求，乙方负责完成金刚石基底镀钨膜工艺研究，即运用专业技术知识，为甲方解决金刚石基底表面镀钨膜层制备与性能表征中的关键技术问题。具体包括但不限于以下内容：（1）金刚石基底预处理工艺；（2）镀钨膜制备工艺开发；（3）膜层性能测试与表征；（4）样品与定型工艺文件交付。钨膜厚0.5-5μm，厚度偏差≤±5%，区内均匀性≤±5%，500°热循环不起皮开裂，甲方提供金刚石片，乙方至少交付样品5件。	1套	1	自合同签订之日起至2027年3月31日	中国科学院高能物理研究所

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